나노 크린 테크놀러지와 차세대 반도체 공장

전문가 제언

□ 본고는 반도체 생산 공장에서 요구되는 클린룸의 청정도를 대단히 낮은 1ng/m3의 나노 클린룸에 대하여 기술한다. 이는 공기 중에 함유하고 있는 이온 류, 금속원소, 도판트 류의 농도를 1ng/m3 이하의 수준으로, 유기물은 가소제인 DOP, DBP, 산화제인 BHT등의 총량을 1㎍C/m3 (총 탄소 질량) 이하의 농도로 제어하는 기술이다.

□ 금후 일본이 생각하는 반도체 생산형태는 주류가 다품종 소량생산이라고 할 수 있는데, 세계의 디바이스 수요는 임기응변으로 대응하여 공장건물은 소규모로서 필요한 시기에 제때 건설되는 것이 바람직하다고 보며, 이전부터 생산중의 복층계의 건물에 접속하여 증축하든가 또는 생산중의 클린룸을 갖는 대형 건물 내에 클린룸을 증설하는 등 시공기술을 말하고 있다.

□ 클린룸 내의 청정외기를 얻기 위해서는 일반대기보다 부압으로 되어 오염물질 유입의 위험 등을 고려해야 하며, 대기오염이 많은 시대에 부응하여 새로 개발한 고성능 케미컬 필터를 개발하여 사용한다. 클린룸 구성재로부터 발생가스를 최소로 하기위해서, 최적인 마감재를 사용한다. 마감재는 외기취입으로부터 클린룸까지 도달하는 경로, 클린룸 및 순환공기에 접하는 재료, 장치의 마감재로 가스발생이 최소인 재료를 사용하게 기술된다.

저자

Suzuki Yoshinobu et. al.

자료유형

원문언어

일어

기업산업분류

전기·전자

연도

2003

권(호)

42(8)

잡지명

전자재료(A124)

과학기술
표준분류

전기·전자

페이지

18~23

분석자

손*목

분석물

• 나노 크린 테크놀러지와 차세대 반도체 공장.pdf [159,145 byte]

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