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첨단기술정보

근접장 노광에 의한 미세 패턴 제작

전문가 제언: □ 최근 각종 광학 디바이스의 수요가 급증하고 있으므로 우리나라도 용도에 적합한 광학 디바이스의 연구가 대학 연구실이나 연구소에서 활발하게 진행되고 있다. 극단적인 자외선이나 전자선 등을 이용한 노광기술에 관한 연구는 별로 없는 것 같다. 근접장 광학 기술은 앞으로 나노 규모의 미세 가공 기술에 이바지할 수 있다고 함으로 이 분야의 연구에 주목할 필요가 있다고 사료된다.

□ 본고에서 소개한 미세한 레지스터 패턴을 제작하려면 근접장 마스크 노광의 원리에서 알 수 있는 바와 같이, 근접장 영역에 이르는 과정이 여러 단계의 정교한 장치와 작업 순서에서만 이루어질 수 있다는 점을 새삼스럽게 느끼게 하며, 앞으로 디바이스는 점점 미소화 및 미세화가 진행될 것으로 생각된다.

□ 최근 전자 디바이스의 미소화 및 미세화에 따라 원자 규모의 구조가 전기 특성이나 광학 성질 등을 좌우하게 되므로, 방사광의 에너지, 광학 특성, 펄스 특성, 밝기의 특성 등과 재료와의 상관성을 구명하게 되면 연구의 효율이나 진전이 빨라질 것으로 생각된다.