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박막디스크에 사용되는 비결정탄소보호막(Amorphous carbon overcoat for thin-film disk)

전문가 제언
□ 현재 하드 디스크나 DRAM과 같은 반도체 메모리의 경우 집적도를 높이는 것이 향후 발전 방향의 관건이다. 고집적을 원하는 이유는 생산단가 절감과 높은 효율, 빠른 반응 시간 등의 장점이 있기 때문이다. 그러나 현재의 집적 기술은 거의 한계에 다다르고 있다. 이제는 기존의 집적 방법이 아닌 다른 획기적인 기술을 개발하거나 새로운 재료를 개발하는 것이 중요하다. 그런 면에서 볼 때 FCA 증착(filtered cathodic arc deposition)이라는 새로운 기술과 질소가 도핑 된 사면체의 비결정성탄소(nitrogen-doped tetrahedral amorphous carbon)와 같은 새로운 재료의 도입은 환영받을 일이다.

□ 현재 박막 형성 기술에는 증발(evaporation), 도금(electro-plating), 스퍼터링(sputtering), CVD(Chemical Vapor deposition) 등이 있다. 이 논문에서는 가까운 미래에 실현될 차세대 기술로 FCA 증착이라는 기술을 설명하면서 이 기술을 통해 만들 수 있는 ta-C 필름이 기존의 스퍼터링이나 CVD 기술로 만들 수 있는 박막의 성능보다 우수함을 잘 보이고 있다. 그러나 현재 어떠한 기술적인 부분에서 이러한 기술이 실현되지 못하고 있는지에 대해서 언급이 없는 것은 아쉽다.

□ 유기 재료인 비결정성탄소의 경우 수소나 질소가 도핑 됨에 따라 성질의 변화가 일어나는 것을 확인할 수 있었다. 반도체가 그러하듯이 재료 안의 미세한 불순물의 양을 조절함으로 인해서 생기는 변화를 산업적으로 이용할 수 있다는 것이 참 묘하게 들리지만 이것이 재료 공학의 정수이다.

□ 계속해서 집적도를 높일 수 있는 여러 가지 기술과 재료들이 개발되는데 있어서 좋은 방향을 제시하고 있는 논문이다. 이 논문에서는 주로 재료공학적인 접근을 통해 새로운 기술의 개발을 예측하고 있지만 산업에 실제 적용되는 데 있어서의 가능성과 전기공학적인 원리들이 더 자세하게 제시되었으면 하는 바람이 있다.
저자
T. Yamamoto, H. Hyodo
자료유형
원문언어
영어
기업산업분류
재료
연도
2003
권(호)
36(4-6)
잡지명
Tribology International
과학기술
표준분류
재료
페이지
483~487
분석자
김*수
분석물
담당부서 담당자 연락처
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